Home Software 3D-Druck-Spezialist Nano Dimension meldet 2. Patent für ein Large Language Model (LLM)...

3D-Druck-Spezialist Nano Dimension meldet 2. Patent für ein Large Language Model (LLM) an

Nano Dimension, ein Spezialist im Bereich Additively Manufactured Electronics (“AME”) und multidimensionalen Polymer-, Metall- und Keramiklösungen für den 3D-Druck, gab die Einreichung eines US-Patentantrags mit dem Titel “Large Language Models for efficient Anomaly Detection in Log Files of Industrial Machines“ bekannt.

Die Herausforderung bei der automatisierten Anomalieerkennung liegt vor allem in der Analyse von Maschinenlogdateien. Diese sind zwar eine wertvolle Informationsquelle für industrielle Systeme, werden jedoch aufgrund der zunehmenden Komplexität der Systeme und des wachsenden Datenvolumens immer schwieriger und kostspieliger zu analysieren. Zudem erfolgt die Analyse üblicherweise nach dem Eintreten von Ereignissen und nicht in Echtzeit, was die Möglichkeit zur sofortigen Korrektur verpasst.

Nano Dimension hat seine bestehenden KI-Patente um ein Großes Sprachmodell (LLM) erweitert, das unabhängig von ingenieurtechnischen Labels operieren kann. Diese Technologie nutzt die in den Maschinenlogs ausgedrückten Sentiments, um einen vollautomatischen Prozess der KI-gestützten Vorhersage von Fertigungsanomalien zu ermöglichen. Dies kann entweder ausschließlich auf Logdateien basieren oder in Kombination mit anderen Maschinendaten erfolgen und ist effizient genug, um Milliarden von Logzeilen zu verarbeiten.

Dieser Patentantrag folgt auf ein verwandtes Patent, das im September 2023 eingereicht wurde. Beide Patente sind für die Entwicklung der Produkte von Nano Dimension von großer Bedeutung, die nach Möglichkeit mit der deep learning-basierten KI von DeepCube Group gestaltet werden, sowie für Drittkunden und Partner, die zunehmend darauf abzielen, dieselbe Technologie in ihren eigenen industriellen Prozessen und Systemen einzusetzen.

Dr. Eli David, Chief Technology Officer of AI bei Nano Dimension, kommentiert: “Die Einreichung der Patentanmeldung Large Language Models for Efficient Anomaly Detection in Log Files of Industrial Machines ist eine weitere bedeutende Entwicklung für Nano Dimension und unsere Kunden. Eine Lösung ist nur dann wirklich wertvoll, wenn sie skalierbar ist, und dieses neue Patent ist der Kern von enorm skalierbaren, fortschrittlichen industriellen Lösungen.”

Wöchentlicher 3Druck.com Newsletter

Keine News mehr versäumen: Wir liefern jeden Montag kostenlos die wichtigsten Nachrichten und Informationen zum Thema 3D-Druck in Ihr Postfach.

Wir senden keinen Spam! Mit dem Absenden des Formulars akzeptieren Sie unsere Datenschutzbestimmungen.

Keine News mehr versäumen!

Wir liefern wöchentlich kostenlos die wichtigsten Nachrichten und Informationen zu dem Thema 3D-Druck in Ihr Postfach. HIER ANMELDEN. Wir sind auch bei LinkedIn zu finden. Sie können uns hier folgen!