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3D-Drucker-Hersteller Nanoscribe hat mit 2GL eine neue Technologie für die 3D-Mikrofabrikation vorgestellt. Die Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographie (2GL) setzt jetzt völlig neue Maßstäbe für die 3D-Nano- und Mikrofabrikation. Die Technologie verbindet laut dem Unternehmen die hohe Auflösung der Zwei-Photonen-Polymerisation (2PP) mit einem patentierten Voxel-Tuning-Verfahren. Dies soll 2GL zur schnellsten 2PP-basierten 3D-Drucktechnologie mit hoher Formgenauigkeit und hervorragender Druckqualität machen.
Die Quantum X-Plattform von Nanoscribe, mit ihrer patentierten Zwei-Photonen-Graustufen-Lithographietechnologie für die additive Fertigung von optisch hochwertigen 2D- und 2,5D-Mikrostrukturen, hat sich zur Plattform der Wahl für die industrielle Fertigung und Beherrschung von Mikrooptik entwickelt. Nun führt Nanoscribe die Voxel-Abstimmungstechnologie in die dritte Dimension ein, indem sie den 3D-Druck durch 2GL als wesentliche Ergänzung zu den Funktionen der Aligned Two-Photon Lithography (A2PL) des Quantum X align einführt.
Der Druckprozess beruht auf der dynamischen Modulation der Laserleistung in Echtzeit während des Scannens bei höchster Geschwindigkeit. Dies führt zu einer präzisen Größenanpassung des polymerisierenden Voxels, um perfekt zu den Konturen jeder 3D-Form zu passen. Der 3D-Druck durch 2GL garantiert makellose, optisch hochwertige Oberflächen und feinste, submikronische Merkmale, ohne jegliche Schrittaufteilung oder Formverzerrung, nur die tatsächliche Form eines jeden 3D-Druckdesigns.
Der 3D-Druck durch 2GL ist die schnellste auf 2PP basierende Mikrofabrikationstechnologie auf dem Markt. Durch die dynamische Voxel-Abstimmung sind deutlich weniger Druckschichten erforderlich, um Druckergebnisse mit optisch hochwertigen, glatten Oberflächen sowie nanostrukturierten Oberflächen zu erzielen. Dies führt zu einer Herstellungsgeschwindigkeit, die von keinem verfügbaren 2PP-basierten 3D-Drucker erreichbar ist. Die schnellste additive Fertigungstechnologie auf dem Markt für 3D-Nano- und Mikrofabrikation liefert 10 bis 60 Mal die Durchsatzrate jedes aktuellen 2-Photonen-Lithographiesystems, wenn anspruchsvolle Druckqualitätsanforderungen erfüllt werden.
Der 3D-Druck durch 2GL bietet die höchste optische Qualität, feinste submikronische Merkmale und bisher unvorstellbare hohe Durchsatzraten. Dies fördert die Herstellung von Mikrooptik und die Photonik-Verpackung erheblich. Der Nanoscribe Quantum X align mit seiner Aligned 2-Photonen-Lithographie A2PL ist mit dieser grundlegend neuen Drucktechnologie ausgestattet und wird von der fortschrittlichen Aligner-Software nanoPrintX unterstützt.
Der Quantum X align ist optimiert für den Druck von Mikrooptikelementen mit höchster Platzierungsgenauigkeit und automatischer Ausrichtung auf optische Fasern und photonische Chips. Mit dem völlig neuen Qualitäts- und Geschwindigkeitsniveau ebnet der 3D-Druck durch 2GL den Weg zur weiteren Industrialisierung der Free Space Micro Optical Coupling (FSMOC) als äußerst robuste und effiziente Lichtkopplungslösung für die Photonik-Verpackung und -Integration.
Der 3D-Druck durch 2GL markiert wirklich eine neue Ära für die auf 2PP basierende 3D-Mikrofabrikation. Es gibt zahlreiche potenzielle Anwendungsfälle für diese Technologie jenseits von Mikrooptik und Photonik, immer dann, wenn die schnellste Druckgeschwindigkeit, optisch hochwertige Oberflächen, feinste submikronische Details oder strukturierte Oberflächen entscheidend sind. Bereiten Sie sich auf beeindruckende Druckqualität und bis zu 60 Mal höhere Durchsatzraten vor.
